一、反滲透加復床純水設備簡介:
該設備是采用一級反滲透裝置與陰陽離子復床設備相結(jié)合的方式制取更高品質(zhì)的純水,當然同時也提高了離子交換樹脂的使用壽命及再生周期。
作為復床放在反滲透裝置的后面可制取2us/cm的純水,陰、陽離子交換器是水處理專業(yè)中常規(guī)、經(jīng)典的設備,它主要用于降低水中的硬度和堿度,設備在運行和再生時,液流通過交換層的方向是相反的。根據(jù)水處理工藝的要求,可分別填裝強型或弱型的陽、陰離子交換樹脂和大也吸附樹脂,本公司產(chǎn)品有手動控制和自動控制兩種規(guī)格。作為混床放在放在反滲透裝置的后面可制取17兆歐的超純水,混合離子交換器是將陽、陰樹脂混合物均勻后運行的純水制備設備,相當于無數(shù)個陽、陰單床的組合,具有出水電阻率高的特點。為使陽、陰樹脂的同時達到交換終點而同時再生,內(nèi)填樹脂高度一般為陽∶陰=1∶2,
作為軟化床放置反滲透設備前面可提升反滲透的進水水質(zhì),所謂軟化水的處理就是利用陽離子中可交換的陽離子,把水中所含的鈣、鎂離子交換出來。經(jīng)軟化后,水的硬度可降至0.03MMOL/L以下,從而提高RO反滲透純水機的除鹽能力。
二、反滲透加復床純水設備參數(shù):
a. 進水水源:市政自來水(也可以地下水或江河水,江河水需進行前處理)
b. 進水壓力:0.2-0.5MPa
c. 進水電導率: ≤400us/cm(如果進水電導率高時建議采用二級反滲透)
d. 出水水質(zhì):在線電導率<5us/cm (可以到達0.2us/cm)
三、反滲透加復床純水設備工藝流程:
原水箱→石英沙過濾器→活性碳過濾器→軟化水過濾器→精密過濾器→反滲透裝置→中間水箱→增壓泵→陽床→陰床→純水箱→用水點
四、反滲透加復床純水設備應用:
1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯像管、玻殼、液晶顯示器、光學、光電、熱電廠、冶金、化工、輕工、汽車制造、制藥、醫(yī)療衛(wèi)生等制造工業(yè)用純水。
2、單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝行業(yè)純水設備、太陽能硅片清洗水設備
3、醫(yī)藥行業(yè)用水:制藥、制劑工藝用水,醫(yī)療血液透析、生化分析、輸液用純化水裝置等。
4、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
5、制取飲料行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水、礦化水、酒類生產(chǎn)白酒勾兌用純水、啤酒糖化投料用水及純生啤酒過濾等。
6、賓館、樓宇、社區(qū)供水網(wǎng)絡系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化。
7、制取電鍍工藝用去離子水、電池(蓄電池、鋰電池)生產(chǎn)工藝的去離子超純水,汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗
純水,鍍膜玻璃用純水,紡織印染工藝所需的除硬鹽水。
8、石油化工如化工反應冷卻、化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純水。
9、去離子水、DI水、超純水、軟化水、廢水(污水)中水回用、電子工業(yè)用超純水、單/多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光駝信、電腦元件、電容元器件等生產(chǎn)工業(yè)用純水。
10、PCB超純水半導體LED超純水處理設備太陽能硅片純水處理。
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